DHMS 系列 磁控濺射鍍膜儀
可采用直流（DC）濺射，濺射金屬靶材制備金屬膜，也可采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜。可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導電，合金，半導體，陶瓷，介電，光學，氧化物和 PTFE 薄膜等。而且設備體積較小操作方便，是一套理想的實驗工具。
技術參數
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可采用直流（DC）濺射，濺射金屬靶材制備金屬膜，也可采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜。可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導電，合金，半導體，陶瓷，介電，光學，氧化物和 PTFE 薄膜等。而且設備體積較小操作方便，是一套理想的實驗工具。
技術參數
