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DH-CVD-XX 系列 氣氛熱處理程控高溫爐

本裝置包含燒結系統、供氣系統、真空系統,供氣系統于一體,應用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米管生長、石墨烯生長以及復合碳材料的滲透等;也可用于氣相傳輸法材料合成及制備納米材料,如 ZnO、CdS 等;溶液法制備薄膜,如制備龐磁電阻薄膜,制備高溫超導薄膜等;固相反應法材料合成;在大氣、真空或氣氛保護下進行各種材料的熱處理。

設備規格及配置

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